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未来已至，机器视觉解决方案为芯片制造注入全新活力

机器视觉设备助力高端制造行业在现代芯片制造中，机器视觉技术扮演着至关重要的角色。既提高了芯片制造产线的生产效率，同时确保纳米级别芯片的产品拥有高质量与产品一致性。我们将通过五个应用场景，深入剖析机器视觉技术是如何帮助芯片制造行业提高产线工艺水平，提升芯片质量。 01晶圆检测晶圆检测是芯片制造过程中重要的环节。机器视觉系统常被用于晶圆的微小缺陷和污染物的检测。在精密的晶圆检测环节，是不能单纯依赖人眼检测表面缺陷，不仅耗时长且容易出现漏...

2024-07-11 09:45:13
机器视觉控制轴运动原理是什么？

过去几年里，运动控制系统已经把机器视觉作为其关键部分。越来越多的工程师和科研人员认识到当前的机器视觉技术和运动控制技术相结合对于解决复杂应用问题有相当大的帮助。软硬件技术的发展也促进了运动控制和机器视觉系统的结合，并降低了它们的开发难度和开发成本。在设计这种系统时，了解目前的技术发展、方法以及开发工具会对您的工作提供很大的帮助。机器视觉控制轴运动原理是一个复杂而深入的主题。下面将从以下几个方面进行介绍： 1、机器视觉概述机器视觉是一种模...

2024-07-11 09:44:05
掩膜版行业深度报告：光刻蓝本亟待突破，国产替代大有可为

掩膜版：电子制造之底片，晶圆光刻之蓝本。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，按照制造材料可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（菲林、凸版、干版），按照下游应用领域可以主要分为平板显示掩膜版、半导体掩膜版、触控掩膜版、电路板掩膜版。掩模版对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。在集成电路领域，光掩模的功能类似于传统相机的“底片”，在光刻机、光刻胶的配合下，将光掩模上已设计好的图案，通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上，进行图像复制，从而实现批量生产。...

2024-07-10 10:29:20
半导体芯片——光刻工艺流程

光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平...... 光刻概念光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显...

2024-07-10 10:27:16
机器视觉智能系统集成，构建现代制造业生态系统的必由之路

机器视觉，这一融合了光学、电子、计算机与人工智能技术的交叉学科，赋予了工业设备“看”的能力。它能够对生产线上流动的产品进行高精度、高速度的识别、测量、定位和判断，从而实现自动化质量控制和过程优化。深圳虚数科技利用深度学习、图像处理等先进技术，确保机器视觉系统的精准与高效，为现代制造业的智能化升级奠定坚实基础。传统的制造业中，各个工序之间往往存在信息孤岛现象，导致资源浪费和效率低下。而通过机器视觉智能系统集成，可以打破这些壁垒，使各环节数据实时共享...

2024-07-09 10:26:13
关于晶圆瑕疵检测的几个问题

Q1：晶圆表面瑕疵是怎么产生的？晶圆经过一系列制造加工工艺后，会不可避免的在其表面相应层中引入诸如：颗粒异物、划痕、缺失等缺陷，也有本身材质存在的缺陷。颗粒是可能引入的工序有刻蚀、抛光、清洗等。冗余物缺陷主要来自于生产加工中晶圆表面的灰尘、空气纯净度未到达标准以及加工过程中化学试剂等。 Q2晶圆表面缺陷会造成什么影响？颗粒异物在光刻时会遮挡光线，造成集成电路结构上的缺陷，污染物可能会附着在晶圆表面，造成图案的不完整，影响芯片的电气特...

2024-07-09 10:25:31