半导体晶圆作为芯片制造的基石,其质量直接决定芯片性能与可靠性。在半导体制造流程中,晶圆需经历400至800个工艺步骤,耗时1至2个月。任何早期缺陷若未被及时检出,将导致后续工艺的无效投入,因此晶圆检测成为保障良率的核心环节。 一、检测技术的分类与应用场景 1. 量测与缺陷检测的协同体系 量测技术通过光学、电子束等手段,对晶圆尺寸、薄膜厚度、电路图案线宽等参数进行精密测量,确保工艺精度符合设计要求。例如,椭偏仪可测量薄膜厚度,CD-SEM(临界尺寸扫描电...
2025-07-09 17:33:49