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关于晶圆瑕疵检测的几个问题

Q1：晶圆表面瑕疵是怎么产生的？晶圆经过一系列制造加工工艺后，会不可避免的在其表面相应层中引入诸如：颗粒异物、划痕、缺失等缺陷，也有本身材质存在的缺陷。颗粒是可能引入的工序有刻蚀、抛光、清洗等。冗余物缺陷主要来自于生产加工中晶圆表面的灰尘、空气纯净度未到达标准以及加工过程中化学试剂等。 Q2晶圆表面缺陷会造成什么影响？颗粒异物在光刻时会遮挡光线，造成集成电路结构上的缺陷，污染物可能会附着在晶圆表面，造成图案的不完整，影响芯片的电气特...

2024-07-09 10:25:31
机器学习必学10大算法

1.线性回归在统计学和机器学习领域，线性回归可能是最广为人知也最易理解的算法之一。预测建模主要关注的是在牺牲可解释性的情况下，尽可能最小化模型误差或做出最准确的预测。我们将借鉴、重用来自许多其它领域的算法（包括统计学）来实现这些目标。线性回归模型被表示为一个方程式，它为输入变量找到特定的权重（即系数B），进而描述一条最佳拟合了输入变量（x）和输出变量（y）之间关系的直线。线性回归例如：y=B0+B1*x 我们将在...

2024-07-08 10:27:15
机器视觉在芯片生产中的应用

芯片的应用领域非常广泛，例如新能源领域、信息通讯设备领域、交通运输领域、电子信息设备、家电领域以及智能电网产业等。在新能源领域，芯片在将风电和太阳能电力接入电网以及减少输电损耗方面发挥着非常重要的作用。在信息通讯设备领域，芯片是计算机、手机等设备的重要组成部分，影响着设备的性能和效率。在交通运输领域，芯片被广泛应用于各种交通工具中，如飞机、汽车、火车等，用于控制和监测系统的运行。机器视觉在芯片生产中的应用外观检测运...

2024-07-08 10:25:56
半导体知识分享——用多种方法改善，使浸润式光刻机曝光台边缘缺陷，检测后分析

介绍在摩尔定律引导下，国际半导体技术蓝图（ITRS）也在不断更新换代。随着集成电路产品技术需求的提升，光刻技术也不断地提高分辨率，以制作更精细的器件尺寸。传统的光刻技术中镜头和晶圆之间的介质是空气，而浸润式光刻技术则是把空气换成了液体，比如水，这是利用了光通过液体后波长缩短从而提高分辨率的原理。随着浸润式光刻技术的发展和成熟度越来越高，目前其精度已然达到 28 nm 生产工艺节点，其各项主要性能也得到业界认可，如表 1 所...

2024-07-05 10:05:46
机器视觉在零部件尺寸测量检测技术方面的应用分析

在产品生产制造领域，外观尺寸检测是非常重要的一个环节，一个产品到达消费者手中之前，从最初的材料、零部件，到最后的成品，可能经过了数百道不同的外观尺寸检测过程。外观尺寸检测需要高昂的人工成本，偏偏检测效率和效果不一定能让人满意。因此，越来越多工厂开始使用视觉检测设备来进行产品外观尺寸检测。基于机器视觉检测技术的尺寸测量方法具有成本低、高精度、高效率、操作方便等优点。其非接触性、实时性、灵活性和准确性能有效解决传统检测方法存在的问题。 ...

2024-07-05 09:53:33
在智能制造中，MES和自动化系统将扮演什么关键角色？

了解MES和自动化系统是如何与新一代智能制造技术集成，为制造企业实现数字化转型打下坚实基础的。在谈到智能制造或工业4.0时，行业关注的焦点往往集中在人工智能（AI）、数字孪生和数字线程、增强现实（AR）和虚拟现实（VR）、工业物联网（IIoT）、协作机器人和增材制造等技术上。但是，自动化和控制系统适合于哪些领域？在智能制造领域中，这些系统扮演着什么关键角色？自动化和制造执行系统（MES）如何为制造企业的数字化转型打下坚实的基础？为了回答这些问...

2024-07-04 10:13:37