1.研究背景 随着亚10 nm集成电路芯片逐步进入消费电子、互联硬件、电子医疗设备等领域,对典型缺陷进行高速识别、定位与分类,将极具挑战性。而纳米光子学、计算成像、定量相位成像、光学涡旋、多电子束扫描、热场成像以及深度学习等新兴技术,在提升缺陷灵敏度、分辨率以及对比度等方面已崭露头角,这将为晶圆缺陷检测提供新的可能。 2.晶圆缺陷检测标准是什么? 评价准则 为了更便捷地研究晶圆缺陷的可检测性,研究者们建立了缺陷检测灵敏度这一概念,以定量...
2024-07-16 09:35:59