介绍 在摩尔定律引导下,国际半导体技术蓝图(ITRS)也在不断更新换代。随着集成电路产品技术需求的提升,光刻技术也不断地提高分辨率,以制作更精细的器件尺寸。 传统的光刻技术中镜头和晶圆之间的介质是空气,而浸润式光刻技术则是把空气换成了液体,比如水,这是利用了光通过液体后波长缩短从而提高分辨率的原理。 随着浸润式光刻技术的发展和成熟度越来越高,目前其精度已然达到 28 nm 生产工艺节点,其各项主要性能也得到业界认可,如表 1 所...
2024-07-05 10:05:46