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掩膜版行业深度报告：光刻蓝本亟待突破，国产替代大有可为

掩膜版：电子制造之底片，晶圆光刻之蓝本。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，按照制造材料可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（菲林、凸版、干版），按照下游应用领域可以主要分为平板显示掩膜版、半导体掩膜版、触控掩膜版、电路板掩膜版。掩模版对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。在集成电路领域，光掩模的功能类似于传统相机的“底片”，在光刻机、光刻胶的配合下，将光掩模上已设计好的图案，通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上，进行图像复制，从而实现批量生产。...

2024-07-10 10:29:20
半导体芯片——光刻工艺流程

光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平...... 光刻概念光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显...

2024-07-10 10:27:16
机器视觉智能系统集成，构建现代制造业生态系统的必由之路

机器视觉，这一融合了光学、电子、计算机与人工智能技术的交叉学科，赋予了工业设备“看”的能力。它能够对生产线上流动的产品进行高精度、高速度的识别、测量、定位和判断，从而实现自动化质量控制和过程优化。深圳虚数科技利用深度学习、图像处理等先进技术，确保机器视觉系统的精准与高效，为现代制造业的智能化升级奠定坚实基础。传统的制造业中，各个工序之间往往存在信息孤岛现象，导致资源浪费和效率低下。而通过机器视觉智能系统集成，可以打破这些壁垒，使各环节数据实时共享...

2024-07-09 10:26:13
关于晶圆瑕疵检测的几个问题

Q1：晶圆表面瑕疵是怎么产生的？晶圆经过一系列制造加工工艺后，会不可避免的在其表面相应层中引入诸如：颗粒异物、划痕、缺失等缺陷，也有本身材质存在的缺陷。颗粒是可能引入的工序有刻蚀、抛光、清洗等。冗余物缺陷主要来自于生产加工中晶圆表面的灰尘、空气纯净度未到达标准以及加工过程中化学试剂等。 Q2晶圆表面缺陷会造成什么影响？颗粒异物在光刻时会遮挡光线，造成集成电路结构上的缺陷，污染物可能会附着在晶圆表面，造成图案的不完整，影响芯片的电气特...

2024-07-09 10:25:31
机器学习必学10大算法

1.线性回归在统计学和机器学习领域，线性回归可能是最广为人知也最易理解的算法之一。预测建模主要关注的是在牺牲可解释性的情况下，尽可能最小化模型误差或做出最准确的预测。我们将借鉴、重用来自许多其它领域的算法（包括统计学）来实现这些目标。线性回归模型被表示为一个方程式，它为输入变量找到特定的权重（即系数B），进而描述一条最佳拟合了输入变量（x）和输出变量（y）之间关系的直线。线性回归例如：y=B0+B1*x 我们将在...

2024-07-08 10:27:15
机器视觉在芯片生产中的应用

芯片的应用领域非常广泛，例如新能源领域、信息通讯设备领域、交通运输领域、电子信息设备、家电领域以及智能电网产业等。在新能源领域，芯片在将风电和太阳能电力接入电网以及减少输电损耗方面发挥着非常重要的作用。在信息通讯设备领域，芯片是计算机、手机等设备的重要组成部分，影响着设备的性能和效率。在交通运输领域，芯片被广泛应用于各种交通工具中，如飞机、汽车、火车等，用于控制和监测系统的运行。机器视觉在芯片生产中的应用外观检测运...

2024-07-08 10:25:56